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英特尔CTO泼冷水:尖端晶圆产量即便资金充足也难扩十倍,上限约两倍

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近日,英特尔首席技术官普什卡·拉纳德在接受播客采访时表示,即便资金充足,全球尖端晶圆产量也难以扩大十倍,更现实的增长上限约为两倍。他指出,这一限制源于整个半导体供应链协同扩产的能力,而非某个单一环节。

拉纳德解释称,AI计算能力过去十年大约以每年三倍的速度增长,但制造先进芯片所需的关键设备、洁净室和晶圆厂规模正成为新的产能天花板。其中,ASML每年生产的EUV光刻机不足100台,且到本十年末也难以大幅扩产,而英特尔、台积电以及SK海力士等存储厂商共同争夺这些设备。他进一步指出,今天下单的设备通常约18个月后才能交付,意味着产能要到2028年前后才能落地。

拉纳德还表示,新建晶圆厂也无法自动带来更多晶圆,重要原因是设备供应跟不上。若要整体提升产量,设备供应商、其上游供应商以及更底层的子供应商都必须同步增加产能。换言之,光刻机、关键零部件、材料、检测设备与工厂建设等环节,只要有一处卡脖子,先进晶圆的最终产出就难以大幅跃升。

来源:一电快讯

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