2026年2月7日-8日，第三届中国全固态电池创新发展高峰论坛在北京顺利召开。由中国全固态电池产学研协同创新平台主办，设置1场高层论坛与3场专业论坛，涵盖关键材料与电芯创新、工艺创新与关键装备、知识产权战略重塑与风险前瞻三大主题。

作为全固态电池领域的高规格会议，论坛汇聚政产学研各界400 余人，涵盖9位院士、8家行业组织代表、专家学者及电池、材料、整车、装备等企业骨干，聚焦行业共性关键问题，为我国全固态电池突破技术瓶颈，实现高质量跃升，提供系统性支撑。

以下为深圳吉阳智能科技董事长阳如坤针对“全固态电池规模制造技术探索”的演讲实录：

尊敬的各位来宾、各位专家：大家好！

大家好！非常荣幸能在此发言。请允许我向中国全固态电池产学研协同创新平台表示衷心的感谢，感谢你们精心组织这次高水平的学术与产业交流盛会。同时，感谢欧阳老师的信任与鼓励，让我有机会站在这里，与大家共同探讨全固态电池制造的议题。

大家看到我的题目"规模制造"，我在制造固态电池时考虑的主要是未来必须实现大规模生产才能降成本。如果没有大规模技术，整个降本仍面临很大挑战。当然，我们前期的制造方法为固态电池奠定了基础，也是非常有必要的。基于这个事实，我重点讲四个方面的内容：

一、全固态电池制造认知

固态电池的发展并非一帆风顺，丰田的多次推迟量产便是例证。目前，电池的循环寿命大多在300次左右徘徊，安全性问题也尚未得到彻底解决。固态电池的核心在于用固体电解质取代传统液态电解质，但电解质膜不可或缺，它肩负着电子隔离与离子导通的重任。从微观层面看，原子、分子级的接触至关重要，然而，实际制造中，正极材料、负极材料、电解质、粘合剂、导电剂等颗粒组合后，缝隙难以避免，这些缝隙会引发内阻增加、不均匀发热、锂沉积或锂枝晶生长等一系列问题，与液态电池相比，固态电池的孔隙率要求更为严苛。

在材料角度，颗粒大小、孔隙率控制成为关键。正极缝隙在1微米到10微米，负极在100纳米到10微米，而要实现长寿命，固-固间隙需控制在1微米以下，孔隙率控制在8% - 10%。目前，湿法极片孔隙率约35% - 40%，干法约10% - 20%，与理想值差距较大。全固态电池制造已从宏观牛顿力学迈向微观量子力学领域，模型建立困难，借助AI大模型成为破局关键。

二、全固态电池的制造路线

全固态电池的制造路线主要有两条：原位固化和原位生长。原位固化方面，一次原位固化法技术成熟度较高，已有一些企业开始量产，但面临稳定性、体积变化、产气和残留气泡等问题；逐步原位固化法正在尝试中，有望实现更低的失重率；原位生长法则更具前瞻性，可实现材料内部和整个极片、电芯的自我愈合，但技术成熟度较低，产业化距离尚远。

从技术演进角度看，从掺混固态电解质到准固态，再到全固态，是逐步推进的过程。磷酸铁锂的成功经验启示我们，下一代电池应考虑350Wh/kg - 400Wh/kg的量产目标，为未来400 - 500Wh/kg的工艺和装备开发奠定基础。

三、固固界面原位生长

固固界面的形成和致密化是全固态电池制造的关键。物理接触和化学接触都极为重要，充放电过程中形成的SEI和CEI膜是固固界面融合的典范。原位生长法中，气相沉积、原位固化、溶胶凝胶和原位聚合技术等都是值得探索的方向。然而，物理、化学和工艺方面的挑战依然严峻，例如ALD技术如何实现均匀沉积，以及如何通过精确数字化建立模型、实现跨尺度关联度分析和工艺分析，都是亟待解决的问题。

在线检测技术同样关键，如检测1 - 10微米的金属粉尘，以保障电池安全。固固界面的感知、检测和过程控制，以及基于大数据的闭环控制，对于提升电池制造合格率至关重要。目前，电池制造合格率普遍低于95%，要实现99%以上的高质量制造，还需行业共同努力。

四、固态电池的装备

固态电池的装备研发涉及多个方面。干法混合和连续成膜是实现大规模生产的关键，固态电解质独立成膜且无孔隙是离子传输的理想状态。卷对卷成膜技术、连续制造方法以及智能化成等都是提升生产效率和质量的重要方向。例如，复合叠片技术可实现800 - 1000PPM的效率，一台设备可达2 - 4GWh，这对于大规模生产具有重大意义。

AI大模型在制造过程中的应用面临数据孤岛、实时性和幻觉等问题，需要在数据获取、定义和多模态数据处理上下功夫，以实现精确控制和可解释的模型。通过边缘计算、分层次控制架构以及物理约束和数据合成等方法，可以更好地利用大模型解决控制问题。最后，我想强调的是，尽管我们在固态电池制造领域取得了一些进展，但目前仍处于探索阶段，基础研究尚未完全清晰。我们应当在研究初期就考虑如何实现大规模生产，将电化学与制造技术深度融合，共同推动固态电池制造技术的发展。

非常感谢大家刚才的聆听。全固态电池的制造，确实是一条充满挑战又极具价值的征途。今天在这个平台上，我们分享思考，更希望的是能激发行动，促成更多的合作。

感谢主办方提供这个平台，也感谢在座各位同仁的关注与交流。谢谢大家！

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