6月30日荷兰政府正式出台关于半导体制造设备的出口管制限领，这些管制主要针对先进芯片制造技术有关的设备，措施将于9月1日正式生效。

根据新的规则，荷兰半导体设备制造公司要为部分领先设备申请出口许可，并强调不是针对特定国家。

一次可以申请24个许可证，之后每年最多可以申请20个许可证。

此举将会对中国包括新能源汽车，以及智能驾驶等多个领域的发展造成影响。

针对性明显 

根据路透社的说法，美国与荷兰企图给中国芯片制造商一套持续的打击，目的是进一步限制对华销售芯片制造设备。

荷兰对外贸易和发展合作部大臣Schreinemacher表示：之所以这么做是处于国家安全考虑，对于受到影响的公司来说，他们有一定的时间来适应新的规则（指3个月）。这样我们就可以解决漏洞，而且不会对全球芯片制造产业造成不必要的干扰。一次

此前，曾经有消息人士透露，美国商务部也在酝酿半导体领域的限制动作。对此英伟达NV认为，这些限制动作虽然短时间不会对公司财务造成影响，但长时间看，代价有可能很沉重，甚至导致美国相关行业市区全球最大的市场。

荷兰对华半导体制造设备出口限制，显然这是在美国压力下的一系列动作。

中方回应

对此，中国驻荷兰王国大使馆发言人回应：荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。

中方还表示：“当前，全球半导体产业已形成你中有我、我中有你的产业格局。中国是世界最大的半导体市场，也是全球半导体供应链的重要组成部分。荷方以所谓“国家安全”为由人为设限毫无道理，完全站不住脚。在科技领域人为制造壁垒，在法律上、道义上没有依据。这种行为不仅损害中国企业的正当合法权益，也会让荷兰企业蒙受损失，损害全球产业链供应链的稳定，还将破坏荷支持自由贸易的良好信誉。

众所周知，一段时间以来，个别大国一再泛化“国家安全”概念，滥用出口管制措施，对中国企业进行恶意封锁和打压，胁迫盟友参与对华经济遏制。我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时，也愿与荷方一道，本着互利互惠的原则，共同探讨解决方案，共同推动中荷经贸关系健康发展。”

限制都包括哪些？ 

只有虽然该限制只针对少数公司生产的特定设备，但依然起到了一定制约作用。主要受影响的公司是ASML，限制主要是最先进的浸润式DUV系统。此前EUV设备已经收到了限制。 

目前限制清单包括：

1、3B001.l ：EUV pellicle

2、3B001.m：EUV pellicle生产设备

3、3B001.f.4：光刻设备，如下所示：

4、3B001.d.12：用于金属剥离的原子层沉积（ALD）设备

5、3B001.a.4：设计用于硅（Si）、碳掺杂硅、硅锗（SiGe）或碳掺杂SiGe外延生长的设备。

6、3B0001.d.19：设计用于在介电常数低于3.3的金属线之间的深度与高度之比（AR）等于或大于1:1的小于25nm宽的空间中沉积由无空穴等离子体增强的Low K电介质的设备。

7、3D007：专为开发、生产或使用本法规3B01.l.、3B01.m.、3B001.f.4、3B001.d.12、3B00.a.4或3B001.d..19中规定的设备而设计的软件。

8、3E005：开发、生产或使用本法规3B01.l.、3B01.m.、3B001.f.4、3B001.d.12、3B00.a.4或3B001.d..19中规定的设备所需的技术。

锁死中国7nm工艺？

美国加紧布局限制，目的是将中国芯片工艺制程锁定在14nm领域，此前荷兰独步领先的EUV光刻机已经被限制，如今先进DUV光刻机也被锁定出口。

今年6月19日，消息称ASML公司的六台DUV光刻机赶在限制之前抢先出口到中国，预计能够制造1.7亿枚芯片。

各方不懈努力下，目前中芯国际已经突破了14nm工艺制程实现量产。由于更先进的EUV设备限制严格，所以目前还无法实现7nm工艺制程。目前中国与荷兰在DUV和EUV设备方面还有很大的差距，所以限制对国内芯片制造行业有很大的制约作用。

根据数据显示，2023年中国在ISSCC国际固态电路会议上发表的沦为59篇（不含中国台湾），超过美国的42篇位列第一。另外在高压器件、低压器件、功率集成电路以及宽禁带功率半导体等方面也有突飞猛进的发展。另外，国内加大了对DUV甚至更先进的EUV制造方面的投资，以争取早日破局。

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